Optisches Emissions Spektrometer SPECTRO ARCOS

für die RaumfahrtindustrieÜberwachungfür Gas

Das neue Dual Side-On Interface (DSOI) erhöht die Nachweisempfindlichkeit und beseitigt Probleme mit Verunreinigungen und Matrixkompatibilität Ein Spektrometer anstatt zwei: Das einzige Gerät mit MultiView-Plasmabetrachtung –axiale UND radiale Plasmabetrachtung (einfach oder dual) in einem Gerät ORCA-Optik: Simultane Erfassung des Spektrums in einem Wellenlängenbereich von 130 bis 770 nm mit bis zu 5x höherer Messempfindlichkeit als Echelle-Optiken – das Ergebnis: Klassenbeste Leistung im UV/VUV-Bereich Überall dort, wo sich in Industrie oder Wissenschaft besonders hohe Anforderungen in der Elementanalytik stellen, spielt das SPECTRO ARCOS ICP-OES seine Überlegenheit aus. Ob bei der Elementanalytik von Metallen, bei der Untersuchung chemischer und petrochemischer Substanzen oder in der Umweltanalytik: Wenn es auf höchste Empfindlichkeit und höchste Präzision ankommt, ist das SPECTRO ARCOS das Gerät der Wahl. Mit der Periskop-freien MultiView-Option hat das SPECTRO ARCOS den Geräte-Grundaufbau fundamental verändert. In weniger als 90 Sekunden lässt sich die Plasma-Betrachtungsrichtung ändern. Von radial nach axial oder umgekehrt. MultView beinhaltet nun auch die Dual Side-on Plasmabetrachtung. Zwei optische Schnittstellen erhöhen die Nachweisempfindlichkeit und beseitigen Probleme mit Verunreinigungen und Matrixkompatibilität. Auf CMOS-Technologie basierende Zeilendetektoren eliminieren „Blooming“ und ermöglichen die Erfassung kleiner Messsignale, selbst in direkter Nähe intensiver Linien. Sie bieten einen großen Dynamikbereich und benötigen keine Chipkühlung. Das Design des SPECTRO ARCOS gewährleistet außergewöhnlich niedrige Betriebskosten über eine lange,