Galvanikanlage für Wafer A-52-ST-LAAS-SO

Übersicht
Wafer-Beschichtungsanlage Modell A-52-ST-LAAS-SO, Typ starke Rührung, entwickelt in Zusammenarbeit mit LAAS (CNRS). Die konventionelle A-52-Konfiguration wurde angepasst, um das Risiko von Flüssigkeitsaustritt bei hohen Rührgeschwindigkeiten zu verringern und so einen zuverlässigeren Betrieb bei anspruchsvollen Beschichtungsprozessen zu ermöglichen. LAAS verfügt über technische Daten und Forschungsergebnisse zur Anwendung des Geräts.

Partner
[Ausländischer Technologiepartner] LAAS - CNRS (French National Centre for Scientific Research)
Bereitgestellt vom CNRS und dem LAAS-Institut, beide Mitglieder des französischen Renatech-Netzwerks (Stand Februar 2026). LAAS (Laboratory for Analysis, Systems and Architectures) ist ein Forschungsinstitut des CNRS in Toulouse, zugeordnet zu INSIS und INS2I.

Eigenschaften / Technische Spezifikationen

• Modell: A-52-ST-LAAS-SO
• Typ: Wafer-Beschichtungsanlage, Typ starke Rührung
• Entwicklung: Zusammenarbeit mit LAAS (CNRS)
• Konstruktionsmerkmal: Verbesserte Maßnahmen zur Verhinderung von Flüssigkeitsaustritt bei hohen Rührgeschwindigkeiten
• Konfiguration: Basierend auf dem konventionellen A-52-Modell