Macchina di lavaggio termica EZKT

sottovuoto

Sistema di pulizia termica sottovuoto TESTEQ per componenti a semiconduttore di alta precisione Rimozione della contaminazione leader nel settore per litografia, ottica e lavorazione dei wafer Questa apparecchiatura adotta un'innovativa struttura di tenuta inclinata (design brevettato - vuoto termico/litografia/UHV). Grazie alla piastra di copertura ad adattamento gravitazionale e alla tecnologia di interblocco dell'anello di tenuta a doppio anello, è in grado di mantenere un livello di vuoto stabile (≤10-⁶ Pa), risolvendo il problema della ridotta efficienza di pulizia causata dal fallimento della tenuta nelle apparecchiature tradizionali. Integra un sistema di spruzzatura a doppio fluido (idrossido di sodio + acqua deionizzata), che supporta la pulizia non distruttiva in un ambiente sotto vuoto ad alta temperatura (350℃), evitando la deformazione da stress termico. È adatto per la manutenzione di componenti di alta precisione come piastre di maschere, gruppi di lenti e componenti della pompa del vuoto delle macchine litografiche, migliorando in modo significativo la resa dei chip e la durata delle apparecchiature.