Thermische Waschanlage EZKT

Vakuum

TESTEQ Thermal-Vakuum-Reinigungssystem für hochpräzise Halbleiterkomponenten Branchenführend in der Entfernung von Verunreinigungen für Lithografie, Optik und Waferbearbeitung Diese Anlage verfügt über eine innovative, geneigte Versiegelungsstruktur (patentiertes Design - Thermisches Vakuum/Lithographie/UHV). Durch die an die Schwerkraft angepasste Abdeckplatte und die Verriegelungstechnologie des doppelten Dichtungsrings kann ein stabiles Vakuumniveau (≤10-⁶ Pa) aufrechterhalten werden, wodurch das Problem der verringerten Reinigungseffizienz, das durch Versagen der Versiegelung in herkömmlichen Anlagen verursacht wird, gelöst wird. Das integrierte Zweiflüssigkeits-Sprühsystem (Natriumhydroxid + deionisiertes Wasser) unterstützt die zerstörungsfreie Reinigung in einer Hochtemperatur-Vakuumumgebung (350℃) und vermeidet thermische Stressverformungen. Es eignet sich für die Wartung von Hochpräzisionskomponenten wie Maskenplatten, Linsengruppen und Vakuumpumpenkomponenten von Lithografiemaschinen und verbessert die Chipausbeute und die Lebensdauer der Geräte erheblich.